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發(fā)明專利解疑

荊門市專利申請代理材料撰寫,2024年辦理繳費(fèi)明細(xì)

文字:[大][中][小] 手機(jī)頁面二維碼 2023/1/13     瀏覽次數(shù):    

下文介紹荊門市專利申請代理材料撰寫,2024年辦理繳費(fèi)明細(xì),荊門市個人專利申請或者企業(yè)、高校等專利申請代理有需要隨時溝通合作。

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專利申請有三種類型,發(fā)明專利實(shí)用新型專利,還有外觀設(shè)計專利。這三種專利不管是哪一種專利申請,都需要必備資料申請之前的提交步驟,專利申請的步驟有種,被集中表現(xiàn)的還是尋找專利代理協(xié)議,簡單的說就是尋找專利代理機(jī)構(gòu)進(jìn)行委托申請專利。但是專利代理機(jī)構(gòu)并不能幫助委托人把所有需要準(zhǔn)備的專利申請資料都準(zhǔn)備好吧,所以申請專利需要哪些重要的文件資料,各位委托人準(zhǔn)備好了嗎?

首先是與專利有關(guān)的文件和材料。與申請項(xiàng)目相近或是相似的在先專利文件、文獻(xiàn)、期刊和圖紙等等,委托申請中國的發(fā)明專利時應(yīng)該事先進(jìn)行專利檢索,否則很容易被駁回。

其次是書面技術(shù)資料。申請項(xiàng)目所屬的技術(shù)領(lǐng)域及應(yīng)用到范圍,以及現(xiàn)有技術(shù)中實(shí)現(xiàn)與申請項(xiàng)目相同或是相似效果的技術(shù)措施、技術(shù)手段,方法或是方式。所申請的項(xiàng)目的發(fā)明目的,需要解決那些技術(shù)問題;用文字以及附圖詳細(xì)描述實(shí)現(xiàn)所申請項(xiàng)目發(fā)明目的的技術(shù)措施、技術(shù)特征;所申請項(xiàng)目的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和結(jié)果,或是實(shí)驗(yàn)中所產(chǎn)生的現(xiàn)象;還要結(jié)合具體的實(shí)例和實(shí)驗(yàn)結(jié)論,客觀的說明發(fā)明的優(yōu)缺點(diǎn);發(fā)明人認(rèn)為所申請的項(xiàng)目和現(xiàn)有技術(shù)在技術(shù)特征上的不同之處,發(fā)明人認(rèn)為應(yīng)當(dāng)屬于技術(shù)秘密的內(nèi)容。

然后是進(jìn)行這些資料的變現(xiàn),簡單的說就是如何撰寫這些專利申請書。只要進(jìn)行申請專利的人都會知道,權(quán)利要求書是分為獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求兩種。只是這些專利申請書都是有代理申請專利的機(jī)構(gòu)為專利申請人進(jìn)行編寫的,對申請專利的人來說,專利申請書所需要浪費(fèi)的時間和精力是非常大的,才會有專利代理機(jī)構(gòu)為了減少申請者的勞累,采取代理撰寫專利申請的服務(wù)。

獨(dú)立權(quán)利主要是表現(xiàn)發(fā)明專利和實(shí)用新型專利的主要技術(shù)內(nèi)容,此專利形式是獨(dú)立存在的。其技術(shù)特征的集合是該專利的保護(hù)范圍,獨(dú)立權(quán)利的要求中不能寫入任何非必要的技術(shù)特征,還需要注意的是權(quán)利要求不要寫得太廣泛。

從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征,又含有若干的新技術(shù)特征的權(quán)利要求,從屬權(quán)里要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利的要求或者在從獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。每一個獨(dú)立權(quán)利要求可以有若干個從屬權(quán)要求。

獨(dú)立權(quán)利要求分兩部分撰寫:

一是前序部分:寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Wo(hù)的主題名稱和該項(xiàng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征。

二是特征部分:寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征,這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容,這部分應(yīng)緊接前序部分,用“其特征是……”或者類似用語與上文聯(lián)接。前序部分和特征部分共同限定發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷谋Wo(hù)范圍。

從屬權(quán)利要求分兩部分撰寫:

一是引用部分:寫明被引用的權(quán)利要求的編號及發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭黝}名稱。

二是限定部分:寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦透郊拥募夹g(shù)特征,它是獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充,以及對引用部分的技術(shù)特征作進(jìn)一步的限定。也應(yīng)當(dāng)以“其特征是……”連接上文。通常,從屬權(quán)利要求書應(yīng)盡可能從多方面角度來補(bǔ)充、完善該專利的技術(shù)特征。

權(quán)利要求書撰寫中常見的錯誤

純功能性的權(quán)利要求,這是初寫者常出現(xiàn)的錯誤。通常情況下,產(chǎn)品必須用結(jié)構(gòu)型的技術(shù)特征來撰寫權(quán)利要求,方法必須用步驟或條件式權(quán)利要求,不能采用功能或混合式,這種寫法容易超出說明書范圍,擴(kuò)大了保護(hù)范圍。

總地來說,撰寫專利申請文件主要包括如下幾個步驟:理解發(fā)明創(chuàng)造、挖掘技術(shù)方案、撰寫權(quán)利要求書、撰寫說明書以及完善申請文件的整體結(jié)構(gòu)。在本文中,將針對專利申請文件的撰寫質(zhì)量比較重要的幾個方面進(jìn)行說明。

(一)檢索的重要性

當(dāng)前國內(nèi)的專利代理界,往往注重與發(fā)明人的技術(shù)內(nèi)容溝通而忽視檢索工作。筆者認(rèn)為,檢索工作在整個撰寫過程中具有舉足輕重的作用。專利申請檔案中包含了豐富的技術(shù)信息,在啟動撰寫之前基于可訪問的數(shù)據(jù)庫進(jìn)行初步檢索工作,能夠合理地借鑒前人的智慧,有效地提升申請文件的質(zhì)量。特別地,檢索具有如下重要作用:

1)進(jìn)行明顯新穎性的盡職調(diào)查,防止給申請人帶來不必要的損失。

2)合理地相對于現(xiàn)有技術(shù)劃界,防止多余指定

3)學(xué)習(xí)權(quán)利要求的法言法語,取其精華,提升撰寫技巧。

4)豐富申請文件的信息含量,規(guī)范技術(shù)術(shù)語的使用,合理地借鑒附圖的畫法,提高申請文件的質(zhì)量。

(二)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)記載并且僅記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征

在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時,需要將發(fā)明基本概念下的完整技術(shù)方案用盡量簡潔嚴(yán)謹(jǐn)?shù)恼Z言表述清楚。獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征,但應(yīng)當(dāng)避免引入解決技術(shù)問題的非必要技術(shù)特征。缺乏必要技術(shù)特征將導(dǎo)致申請文件不符合《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款的規(guī)定,非必要技術(shù)特征的存在則會縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍。因此,在寫完獨(dú)立權(quán)利要求之后,需要逐一判斷其中的每個特征是否是解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征,如果是,則保留,如果不是,則刪除,最后還要整體判斷所有保留特征的組合是否確實(shí)能夠解決發(fā)明想要解決的技術(shù)問題。下面通過一個具體案例來說明如何實(shí)現(xiàn)獨(dú)立權(quán)利要求僅記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。

(三)從屬權(quán)利要求的撰寫要領(lǐng)

從屬權(quán)利要求的重要任務(wù)之一就是用合理的中位概念把獨(dú)立權(quán)利要求中涉及的寬泛的上位概念與具體的實(shí)施例聯(lián)系起來。合理安排從屬權(quán)利要求限定的保護(hù)范圍,需要從兩個方面考慮:一是技術(shù)特征的概括,從上位到具體,逐步進(jìn)行;而是從屬權(quán)利要求的引用關(guān)系,從上一個層級到下一個層級,逐級引用。

具體地,考慮到專利申請實(shí)質(zhì)審查程序以及可能的后續(xù)專利權(quán)無效宣告程序,為了增加修改余地,各層級的從屬權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)該逐級縮小,技術(shù)特征應(yīng)該由上位到下位、由一般到特殊,逐步、依次展開。同時,將權(quán)利要求設(shè)置多個層級,下級權(quán)利要求引用上級權(quán)利要求,同級權(quán)利要求還可以設(shè)置多個并列的權(quán)利要求。最后,在最低級的從屬權(quán)利要求中,才涉及具體的附加技術(shù)特征。

(四)說明書公開充分

《專利法》第26條第3款規(guī)定:說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明,以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)。這就是常說的說明書公開充分。

說明書公開不充分是撰寫過程中需要特別注意的問題,例如說明書中對發(fā)明技術(shù)內(nèi)容的描述含糊不清、未給出解決技術(shù)問題達(dá)到技術(shù)效果的技術(shù)手段、說明書中給出的技術(shù)手段含糊不清或者不能解決發(fā)明要解決的技術(shù)問題、引證方式導(dǎo)致公開不充分、反映發(fā)明關(guān)鍵技術(shù)內(nèi)容的說明書附圖不清楚不完整這幾種情況都會導(dǎo)致說明書公開不充分的缺陷。

眾所周知,在中國實(shí)踐中,審查員對修改超范圍的判定非常嚴(yán)格,一旦申請文件被指出說明書公開不充分,多數(shù)情況下針對該缺陷的修改都會導(dǎo)致修改超范圍,從而不被允許,因此在撰寫過程中要盡量避免說明書公開不充分。

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